Antireflection Diffraction Grating
WO2004031815
Art A1
15. April 2004
Anmelder: Nalux Co. Ltd., Japan Science and Technology Agency 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004031815
- Aktenzeichen
- EP03754010
- Anmeldetag
- 7. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 15. April 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B1/10G02B5/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Nalux Co. Ltd.
Japan Science and Technology Agency - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Japan Science and Technology Agency
Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.
2.090 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.