Beleuchtungssystem F R eine Wellenl Nge = 193 Nm mit Sensoren zur Bestimmung der Ausleuchtung
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004031854
- Aktenzeichen
- EP03769309
- Anmeldetag
- 24. September 2003
- Veröffentlichung
- 15. April 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT AG
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Sawodny Patentanwalt (Dr. Michael Sawodny), Teil des Kanzleiverbunds AKLaw mit Standorten in München und Ulm. Seit 1995 im Patent- und Markenrecht tätig, seit 1996 als European Patent and Trademark Attorney, mit Schwerpunkten in Materialwissenschaften, Optik und Maschinenbau.