Gehäuse für ein Projektionsobjektiv in der Mikrolithographie mit Passflächen zu Montage und Justage

WO2004034149 Art A1 22. April 2004

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004034149
Aktenzeichen: EP03807789
Anmeldetag: 13. August 2003
Veröffentlichung: 22. April 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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