Ultra-short ultraviolet optical system-use reflection mirror, ultra-short ultraviolet optical system, application method for ultra-short ultraviolet optical system, production method for ultra-short ultraviolet optical system, ultra-short ultraviolet exposure system, and application method for ultra
WO2004034447
Art A1
22. April 2004
Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004034447
- Aktenzeichen
- EP03751387
- Anmeldetag
- 8. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 22. April 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027G03F7/20G21K1/06G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIKON CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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