Exposure device, exposure system, recipe generation system, and device manufacturing method

WO2004034448 Art A1 22. April 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Systems Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004034448
Aktenzeichen: EP03807984
Anmeldetag: 8. Oktober 2003
Veröffentlichung: 22. April 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Systems Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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