Polycrystalline Silicon Substrate

WO2004036657 Art A1 29. April 2004

Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004036657
Aktenzeichen: EP03751463
Anmeldetag: 10. Oktober 2003
Veröffentlichung: 29. April 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L31/04C30B29/06C01B33/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CANON KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von