Mask, mask producing method and exposure method

WO2004040626 Art A1 13. Mai 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004040626
Aktenzeichen: EP03769938
Anmeldetag: 29. Oktober 2003
Veröffentlichung: 13. Mai 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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