Method for removing acidic gas from raw gas, and additive having corrosion suppressing effect and defoaming effect for addition to amine solution for removing acid gas

WO2004048642 Art A1 10. Juni 2004

Anmelder: Teikoku Oil Co., Ltd., Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004048642
Aktenzeichen: EP03775900
Anmeldetag: 26. November 2003
Veröffentlichung: 10. Juni 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C23F11/173B01D53/14C10L3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Teikoku Oil Co., Ltd.
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von