Production method for exposure system, light source unit, exp0srue system, exposure method and adjustment method for exposure system

WO2004049409 Art A1 10. Juni 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004049409
Aktenzeichen: EP03774182
Anmeldetag: 25. November 2003
Veröffentlichung: 10. Juni 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20G02B19/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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