Shape measurement method, shape measurement device, tilt measurement method, stage device, exposure device, exposure method, and device manufacturing method

WO2004051184 Art A1 17. Juni 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004051184
Aktenzeichen: EP03777212
Anmeldetag: 3. Dezember 2003
Veröffentlichung: 17. Juni 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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