Method for forming resist pattern and resist pattern

WO2004051380 Art A1 17. Juni 2004

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Hitachi Science Systems, Ltd., Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004051380
Aktenzeichen: EP03777177
Anmeldetag: 2. Dezember 2003
Veröffentlichung: 17. Juni 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Hitachi Science Systems, Ltd.
Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

932 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

4.285 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von