Method for forming resist pattern and resist pattern

WO2004051380 Art A1 17. Juni 2004

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD., Hitachi Science Systems, Ltd., Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004051380
Aktenzeichen: EP03777177
Anmeldetag: 2. Dezember 2003
Veröffentlichung: 17. Juni 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Hitachi Science Systems, Ltd.
Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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