Nitrogen-free dielectric anti-reflective coating and hardmask

WO2004055881 Art A1 1. Juli 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004055881
Aktenzeichen: EP03796895
Anmeldetag: 10. Dezember 2003
Veröffentlichung: 1. Juli 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316H01L21/027H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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