Vorrichtung und Methode zur Optischen Messung eines Optischen Systems, Behälter hierfür und Projektionsbelichtungsmaschine für die Mikrolithographie

WO2004057295 Art A2 8. Juli 2004

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004057295
Aktenzeichen: EP03795942
Anmeldetag: 19. Dezember 2003
Veröffentlichung: 8. Juli 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G01M1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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