Projektionsoptik F R die Lithographie und Spiegel F R E Ine Solche

WO2004057400 Art A1 8. Juli 2004

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004057400
Aktenzeichen: EP03813550
Anmeldetag: 4. Oktober 2003
Veröffentlichung: 8. Juli 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/06G02B5/08G03F7/20G02B5/09G02B5/10G02B5/18G02B27/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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