Gepulstes Magnetron Target für Sputterprozesse

WO2004061152 Art A1 22. Juli 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004061152
Aktenzeichen: EP03786762
Anmeldetag: 13. November 2003
Veröffentlichung: 22. Juli 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von