Erhöhung der Positioniergenauigkeit der Randbereiche von Strukturen mit Kritischer Abmessung (cd) und Verbesserung Ihrer Kantensteigung Mithilfe einer Zusätzlichen Belichtungsdosis für Zentrale Pixel und Dosismodulation für die Inneren Pixel

WO2004063814 Art A2 29. Juli 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004063814
Aktenzeichen: EP04700395
Anmeldetag: 6. Januar 2004
Veröffentlichung: 29. Juli 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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