Composition for forming silicon.aluminum film, silicon.aluminum film and method for forming the same

WO2004065659 Art A1 5. August 2004

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004065659
Aktenzeichen: EP03768167
Anmeldetag: 24. Dezember 2003
Veröffentlichung: 5. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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