Resist polymer and resist composition

WO2004067592 Art A1 12. August 2004

Anmelder: MITSUBISHI RAYON CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004067592
Aktenzeichen: EP04706368
Anmeldetag: 29. Januar 2004
Veröffentlichung: 12. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/34C08F220/12G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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