Plasma processor and plasma processing method

WO2004068917 Art A1 12. August 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Nihon Koshuha Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004068917
Aktenzeichen: EP04705185
Anmeldetag: 26. Januar 2004
Veröffentlichung: 12. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Nihon Koshuha Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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