Photomask blank, photomask, and pattern transfer method using photomask

WO2004070472 Art A1 19. August 2004

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004070472
Aktenzeichen: EP04707286
Anmeldetag: 2. Februar 2004
Veröffentlichung: 19. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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