Plasma processing apparatus and method

WO2004070813 Art A1 19. August 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Nihon Koshuha Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004070813
Aktenzeichen: EP04708067
Anmeldetag: 4. Februar 2004
Veröffentlichung: 19. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31H01L21/205H01L21/3065C23C16/511C23F4/00H05H1/46B01J19/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Nihon Koshuha Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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