Vacuum treating device with lidded treatment container

WO2004070814 Art A1 19. August 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004070814
Aktenzeichen: EP04708906
Anmeldetag: 6. Februar 2004
Veröffentlichung: 19. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/31H01L21/205H01L21/302H01L21/3065C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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