Verfahren zur Entfernung von Restkohlenstoffen aus einem Fliessfähigen Oxid-Füllmaterial

WO2004070817 Art A2 19. August 2004

Anmelder: Micron Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004070817
Aktenzeichen: EP04708205
Anmeldetag: 4. Februar 2004
Veröffentlichung: 19. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316C23C16/40H01L21/3105H01L21/3065H01L21/762

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Micron Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von