Mis semiconductor device and method for manufacturing mis semiconductor device

WO2004073072 Art A1 26. August 2004

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004073072
Aktenzeichen: EP04709744
Anmeldetag: 10. Februar 2004
Veröffentlichung: 26. August 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/336H01L21/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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