Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Nativen Oxiden mit Wasserstoff Enthaltenden Radikalen

WO2004074932 Art A2 2. September 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004074932
Aktenzeichen: EP04710667
Anmeldetag: 12. Februar 2004
Veröffentlichung: 2. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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