Plasma-Cvd-Nanoröhren/aufschleuder-Dielektrika mit Kleinster Relativer Dielektrizitätskonstante zur Herstellung Fortgeschrittener Nanoelektronik-Bauelemente

WO2004077554 Art A1 10. September 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004077554
Aktenzeichen: EP04711937
Anmeldetag: 17. Februar 2004
Veröffentlichung: 10. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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