Alicyclic unsaturated compound, polymer, chemically amplified resist composition and method for forming pattern using said composition

WO2004078688 Art A1 16. September 2004

Anmelder: NEC Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004078688
Aktenzeichen: EP04717270
Anmeldetag: 4. März 2004
Veröffentlichung: 16. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C07C35/52C07C69/65C07C43/178C07C43/196C08F32/08G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Corporation
NEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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