Antistatic Detergent

WO2004078898 Art A1 16. September 2004

Anmelder: Tokuyama Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004078898
Aktenzeichen: EP04717786
Anmeldetag: 5. März 2004
Veröffentlichung: 16. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C11D7/60C11D7/24C11D7/32C11D7/34C11D7/36H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokuyama Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von

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