Method of forming thin film, thin film forming apparatus, program and computer-readable information recording medium

WO2004079042 Art A1 16. September 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004079042
Aktenzeichen: EP04714912
Anmeldetag: 26. Februar 2004
Veröffentlichung: 16. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/34H01L21/285H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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