Method of forming a flux concentrating layer of a magnetic device

WO2004079742 Art A2 16. September 2004

Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004079742
Aktenzeichen: EP04708133
Anmeldetag: 4. Februar 2004
Veröffentlichung: 16. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00H01L21/4763H01L21/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Freescale Semiconductor, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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