Substrate processing device, and semiconductor device producing method

WO2004079804 Art A1 16. September 2004

Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004079804
Aktenzeichen: EP04715479
Anmeldetag: 27. Februar 2004
Veröffentlichung: 16. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/31C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Kokusai Electric Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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