Ein Verfahren und ein System um die Zeitschwankungen Beim Scannen in einem Halbleiterwaferherstellungssystem Auszugleichen

WO2004081995 Art A1 23. September 2004

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004081995
Aktenzeichen: EP04720440
Anmeldetag: 12. März 2004
Veröffentlichung: 23. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00G05B19/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von