X-ray generator and euv exposure device

WO2004081998 Art A1 23. September 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004081998
Aktenzeichen: EP04712670
Anmeldetag: 19. Februar 2004
Veröffentlichung: 23. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20G21K3/00G21K5/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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