Substrate for reticle and method of manufacturing the substrate, and mask blank and method of manufacturing the mask blank

WO2004083961 Art A1 30. September 2004

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004083961
Aktenzeichen: EP04721713
Anmeldetag: 18. März 2004
Veröffentlichung: 30. September 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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