Removal of cmp and post-cmp residue from semiconductors using supercritical carbon dioxide process

WO2004085491 Art A2 7. Oktober 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004085491
Aktenzeichen: EP04758142
Anmeldetag: 24. März 2004
Veröffentlichung: 7. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302H01L21/461C25F5/00C03C23/00C23G1/00B08B3/00B08B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇺🇸 USA

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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