Method of etching silicon substrate and etching apparatus therefor

WO2004086478 Art A1 7. Oktober 2004

Anmelder: SUMITOMO PRECISION PRODUCTS COMPANY LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2004086478
Aktenzeichen
EP04721711
Anmeldetag
18. März 2004
Veröffentlichung
7. Oktober 2004
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/3065
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SUMITOMO PRECISION PRODUCTS COMPANY LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sumitomo Precision Products

Sumitomo Precision Products ist ein japanischer Hersteller von Präzisionskomponenten mit Sitz in Amagasaki, der zur Sumitomo-Unternehmensgruppe gehört und unter anderem Fahrwerke für Flugzeuge sowie Wärmetauscher fertigt. Das Patentportfolio verteilt sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente, Kühltechnik und Mess- und Prüftechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

260 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen