Method of etching silicon substrate and etching apparatus therefor
WO2004086478
Art A1
7. Oktober 2004
Anmelder: SUMITOMO PRECISION PRODUCTS COMPANY LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004086478
- Aktenzeichen
- EP04721711
- Anmeldetag
- 18. März 2004
- Veröffentlichung
- 7. Oktober 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SUMITOMO PRECISION PRODUCTS COMPANY LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sumitomo Precision Products
Sumitomo Precision Products ist ein japanischer Hersteller von Präzisionskomponenten mit Sitz in Amagasaki, der zur Sumitomo-Unternehmensgruppe gehört und unter anderem Fahrwerke für Flugzeuge sowie Wärmetauscher fertigt. Das Patentportfolio verteilt sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente, Kühltechnik und Mess- und Prüftechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.
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