Mask blanks production method and mask production method

WO2004088419 Art A1 14. Oktober 2004

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004088419
Aktenzeichen: EP04724724
Anmeldetag: 31. März 2004
Veröffentlichung: 14. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08G03F1/14H01L21/027G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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