Photoresist composition and method for forming resist pattern using the same

WO2004088428 Art A1 14. Oktober 2004

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004088428
Aktenzeichen: EP04722962
Anmeldetag: 24. März 2004
Veröffentlichung: 14. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/038G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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