Crystalline-si-layer-bearing substrate and its production method, and crystalline si device

WO2004090195 Art A1 21. Oktober 2004

Anmelder: FUJI PHOTO FILM CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004090195
Aktenzeichen: EP04726001
Anmeldetag: 6. April 2004
Veröffentlichung: 21. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/24C23C16/56H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, ursprünglich als Fuji Photo Film gegründet, heute aktiv in Fotografie, Bildgebung, medizinischer Diagnostik und Spezialchemie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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