Method of producing photomask and photomask blank

WO2004090635 Art A1 21. Oktober 2004

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004090635
Aktenzeichen: EP04726801
Anmeldetag: 9. April 2004
Veröffentlichung: 21. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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