Heat treating apparatus and heat treating method

WO2004090951 Art A1 21. Oktober 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004090951
Aktenzeichen: EP04723829
Anmeldetag: 26. März 2004
Veröffentlichung: 21. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027F27D7/06F27D19/00G03F7/30G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Optik & Fototechnik

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