METHOD FOR PRODUCING SiO sb 2 /sb -TiO sb 2 /sb BASED GLASS, SiO sb 2 /sb -TiO sb 2 /sb BASED GLASS AND EXPOSURE SYSTEM

WO2004092082 Art A1 28. Oktober 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004092082
Aktenzeichen: EP04726893
Anmeldetag: 12. April 2004
Veröffentlichung: 28. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C03B8/04C03B20/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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