Liquid jet and recovery system for immersion lithography

WO2004092830 Art A2 28. Oktober 2004

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004092830
Aktenzeichen: EP04759086
Anmeldetag: 1. April 2004
Veröffentlichung: 28. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03B27/42G03B27/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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