Photoresists and methods for use thereof

WO2004092831 Art A2 28. Oktober 2004

Anmelder: Rohm and Haas Electronic Materials, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004092831
Aktenzeichen: EP04759374
Anmeldetag: 9. April 2004
Veröffentlichung: 28. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004H01L21/302H01L21/461

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Rohm and Haas Electronic Materials, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rohm and Haas

Ehemaliger US-amerikanischer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Philadelphia, unter anderem für Kunststoffe, Beschichtungen und Elektronikchemikalien bekannt. Wurde 2009 von Dow Chemical übernommen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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