Developing method and developing device

WO2004093170 Art A1 28. Oktober 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2004093170
Aktenzeichen
EP04717762
Anmeldetag
5. März 2004
Veröffentlichung
28. Oktober 2004
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027G03F7/30
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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