Method for etching chromium thin film and method for producing photomask

WO2004093178 Art A1 28. Oktober 2004

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004093178
Aktenzeichen: EP04726007
Anmeldetag: 6. April 2004
Veröffentlichung: 28. Oktober 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23F4/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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