Method for forming a gate in a finfet device and thinning a fin in a channel region of the finfet device
WO2004093181
Art A1
28. Oktober 2004
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004093181
- Aktenzeichen
- EP04759035
- Anmeldetag
- 30. März 2004
- Veröffentlichung
- 28. Oktober 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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