Siloxane monomers and oligomers

WO2004094435 Art A2 4. November 2004

Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2004094435
Aktenzeichen
EP04759877
Anmeldetag
16. April 2004
Veröffentlichung
4. November 2004
Rechtsraum
WO
IPC
C07F7/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

418 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen