Ausgleichen von Heterogenischen Stickstoff Konzentrationen in einer Nitrid-Enthaltenden Siliziumoxid Schicht
WO2004095561
Art A1
4. November 2004
Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004095561
- Aktenzeichen
- EP03800149
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 4. November 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3115H01L21/314H01L21/316H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Advanced Micro Devices
US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.
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Fachgebiete
Vertreten von
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