Liquid droplet jet device using charged particle beam and method for forming pattern using the device

WO2004096449 Art A1 11. November 2004

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004096449
Aktenzeichen: EP04726308
Anmeldetag: 7. April 2004
Veröffentlichung: 11. November 2004
Rechtsraum: WO
IPC: B05C5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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